PVD镀膜设备中质量流量控制器的抗干扰控制
背景
PVD物理气相沉积是薄膜制备主要技术之一，其中电子束蒸发因加热温度高、材料适用范围广而被广泛采用。该工艺在高真空室内利用电子枪轰击靶材实现蒸发镀膜。
课题
在PVD电子束蒸发技术中，电子枪所使用的高压电源是主要的干扰源。
此外，工艺中常配备的离子源同样会产生一定的电磁干扰。
当电子枪高压电源及离子源的启停或功率变化时，会产生电磁干扰等信号，影响质量流量控制器的稳定，导致其测量不准、流量波动、通讯异常、甚至死机或损坏，进而影响镀膜设备的稳定性。
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支持产品
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