金秋九月，第12届半导体设备与核心部件展示会(CSEAC 2024)圆满落幕。阿自倍尔很荣幸能够与国内外众多半导体行业的精英企业和专业人士共同探讨半导体领域的最新技术和未来发展趋势。

一、 三大展区陈列丰富展品

此次展位分为三大展区，分别陈列了过程控制器、高精度传感器以及流量控制器，产品丰富吸引来往不少观众驻足观看。

随着半导体器件尺寸不断缩小，制造工艺变得越来越复杂，在这个过程中，任何微小的变化都可能导致良率下降、成本增加，甚至影响最终产品的竞争力。因此，如何有效地检测和控制这些变量成为了一个亟待解决的问题。 

阿自倍尔拥有丰富的自控产品，不仅具有高精度、响应速度快的特点，还能够适应严苛的工业环境，为用户提供可靠的数据支持，确保生产线稳定运行。

01、 先进过程控制器

阿自倍尔过程控制器为半导体装置的高精度温度、压力以及流量控制提供了众多功能算法。

包括优化控制精度的PID仿真功能、解决温度大滞后装置稳定控温的串级控制算法、以及针对固定干扰存在的应用环境,提供了基于前馈+增益+PID运算的复合运算FF-Fitter算法,帮助半导体装置厂商解决各类过程控制课题。

02、 高精度传感器

阿自倍尔公司针对半导体设备中的晶圆定位、纠偏等应用需求,提供了具备0.1μm分解能力的高精度传感器,晶圆的细微变化也能捕捉。

针对清洗、刻蚀、CMP等装置的应用需求,阿自倍尔提供了可应用于腐蚀及非腐蚀液体中的温度、液位、漏液检测传感器,满足半导体制造装置的各类检测应用需求。

03、 高精度流量控制器

阿自倍尔公司为半导体装置的气体流量监测及控制,提供了基于MEMS芯片技术的气体质量流量计。

产品具备2ms检测气体流量变化以及0.3s到达控制目标的高速响应能力,通过100:1的宽量程比,可以应对半导体装置工艺气体流量变化的控制需求,降低流量计安装数量及备件成本。

二、 安全可靠的解决方案

除了上述产品外，阿自倍尔根据半导体制造过程当中不同环节的课题与痛点，还带来了智能控制解决方案，如前工程温度控制解决方案、前工程检测解决方案、以及后工程控制解决方案，助力客户高效生产！

01、前工程温度控制解决方案

温度解耦控制：通过温区间的协同管理，可以实现多温区的温度同步控制，在改善控温品质的同时，可以有效节约温度稳定等待期间的能源消耗。

串级温度控制：针对温度大滞后设备的控制模型，通过副回路的快速响应特性来快速克服干扰，同时将主回路的温度响应特性快速传递至副回路并予以调节。

02、前工程检测解决方案

液体检测：针对半导体各制程的腐蚀及非腐蚀液体的检测，以光学方式实现液位及漏液检测。采用一体成型技术的温度传感器，实现药液的高精度温度测量。

流量检测：针对半导体工业中微小液体流量的测量，型号F7M采用MEMS传感器技术，再结合耐腐蚀性高的石英玻璃流路，实现了最小0.0001L/min的微小液体流量计量。

03、后工程控制解决方案

快速升温：针对半导体前工艺中的干法刻蚀、后工艺中的封装及测试装置的高速升温需求，提供了10ms控制周期的PID调节器，实现了高速且稳定的升温控制。

吸附确认：通过气体微小流量的变化，来检测晶粒的吸附状态，改善了以往通过压力检测不稳定的问题，为半导体封装工艺提供了新的解决方案。

文章最后

阿自倍尔在这里再次向所有支持我们的朋友

以及光临我们展位的所有参观者致谢

展望未来

我们将继续致力于自动化技术

为行业发展添砖加瓦

也期待在未来再次与大家相聚，

来年CSEAC，我们不见不散！