晶圆单片清洗机是一种专门用于清洗半导体制造过程中单片晶圆的设备。其具备化学品配比和温度控制系统，可以根据工艺要求调整清洗液的浓度和温度。

代表装置

单片清洗机

潜在课题

单片晶圆清洗装置对于清洗效果以及清洗效率都有较高要求，因此对于每次药液带载用的N2控制的快速性及精度都有极高要求。

解决对策

阿自倍尔公司的气体质量流量计，采用了公司独创的MEMS芯片技术，通过直接接触被检测气体的方式，实现了2ms检测到气体流量变化，同时通过阿自倍尔公司的PID算法，来驱动比例式电磁阀进行气体流量的调节，实现了300ms到达控制目标的能力，可以有效提升单片清洗装置的N2带载控制精度。

效果对比

原理描述

阿自倍尔公司的气体质量流量计利用了MEMS芯片技术，芯片边长仅为1.7mm，厚度约0.5mm，采用的是热式测量原理。
工作时，芯片中心的加热器会建立一个恒定的温场，当有气体通过时，由于气体会带走热量，因此恒定的温场将会产生偏移，偏移量与气体流量成正比，在知道气体成分的时候，就可以通过流量换算来获得气体的质量流量。因为气体直接与加热器接触，因此MEMS芯片可以在2毫秒的时间内，检测到气体变化，从而实现气体流量的快速检测。

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